Herstellung von Anlagen zur Oberflächenhärtung (nitrieren, aufkohlen, CVD) von Metallen in Pulsplasma (Quelle: Hoppenstedt)
Dabei sehen die Wissenschaftler im Bereich der Oberflächenhärtung oder der Halbleiterproduktion eine große Zukunft für die Niedertemperaturplasmen voraus. (Quelle: Spektrum der Wissenschaft 1997)